- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/24 - Masques en réflexion; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/24
Brevets de cette classe: 973
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
202 |
Hoya Corporation | 2822 |
178 |
Agc, Inc. | 4029 |
94 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
75 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
55 |
ASML Netherlands B.V. | 6816 |
54 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
41 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
29 |
Toppan Photomask Co., Ltd. | 56 |
29 |
Kioxia Corporation | 9847 |
22 |
Toppan Printing Co., Ltd. | 2212 |
17 |
Asahi Glass Company, Limited | 2985 |
13 |
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6459 |
11 |
SK Hynix Inc. | 11030 |
10 |
S&S Tech Co., Ltd. | 26 |
10 |
Mitsui Chemicals, Inc. | 3134 |
9 |
KLA Corporation | 1223 |
9 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
6 |
Toppan Inc. | 746 |
6 |
KLA-Tencor Corporation | 2574 |
5 |
Autres propriétaires | 98 |